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使用鍍膜機時如何控制薄膜均勻度

更新時間:2019-07-16      點擊次數(shù):962
  鍍膜機有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機,在高真空狀態(tài)下通過高溫金屬熔體鋁蒸發(fā),鋁蒸鍍到塑料薄膜的表面上,使金屬設(shè)備表面的塑料薄膜。
  鍍膜機可以直接驅(qū)動的蒸發(fā)源,通過PID控制回路傳動擋板,使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接,它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準確性是有限的,鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學厚度的涂層質(zhì)量。此外,雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定,但溫度高,它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中,鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域,導致薄膜的重大錯誤。
  隨著鍍膜技術(shù)的快速增長,各種類型的鍍膜機也開始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性,恐怕沒有哪一種鍍膜機是一定均勻的。通過真空狀態(tài)下正交磁場使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車燈鍍膜機廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場、氬氣這三個方面。
  真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來控制的,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。
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